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光學(xué)元件形貌測(cè)試系統(tǒng)
產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

光學(xué)元件形貌測(cè)試系統(tǒng)是Phasics推出的一款多波長動(dòng)態(tài)干涉儀,該產(chǎn)品應(yīng)用了Phasics的橫向四波剪切干涉技術(shù),可以實(shí)現(xiàn)動(dòng)態(tài)的波前測(cè)量,從而快速得到樣品的表面形貌信息;而且該技術(shù)的自消色差的特性,讓系統(tǒng)可以支持多個(gè)工作波長,有效避免傳統(tǒng)干涉儀測(cè)試波長跟工作波長不同帶來的誤差問題,特別針對(duì)濾光片,可以實(shí)現(xiàn)傳統(tǒng)干涉儀無法實(shí)現(xiàn)的TWE的測(cè)試。

產(chǎn)品型號(hào):

更新時(shí)間:2025-09-02

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

訪 問 量 :333

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光學(xué)元件形貌測(cè)試系統(tǒng)

KALEO MULTIWAVE光學(xué)元件形貌測(cè)試系統(tǒng)是Phasics推出的一款多波長動(dòng)態(tài)干涉儀,該產(chǎn)品應(yīng)用了Phasics的橫向四波剪切干涉技術(shù),可以實(shí)現(xiàn)動(dòng)態(tài)的波前測(cè)量,從而快速得到樣品的表面形貌信息;而且該技術(shù)的自消色差的特性,讓系統(tǒng)可以支持多個(gè)工作波長,有效避免傳統(tǒng)干涉儀測(cè)試波長跟工作波長不同帶來的誤差問題,特別針對(duì)濾光片,可以實(shí)現(xiàn)傳統(tǒng)干涉儀無法實(shí)現(xiàn)的TWE的測(cè)試。

應(yīng)用領(lǐng)域:濾光片TWE檢測(cè)

         反射鏡RWE檢測(cè)

         雷達(dá)保護(hù)窗口檢測(cè)

光學(xué)元件形貌測(cè)試系統(tǒng)

       

光學(xué)元件形貌測(cè)試系統(tǒng)

圖2、5英寸帶通濾光片的RWE

光學(xué)元件形貌測(cè)試系統(tǒng)

圖3、940nm的鏡子面型

光學(xué)元件形貌測(cè)試系統(tǒng)

圖4、645nm帶通濾光片TWE

 斐索干涉儀  Kaleo Multiwave

光學(xué)元件形貌測(cè)試系統(tǒng)

圖5、斐索干涉儀和KaleoMultiwave的測(cè)試結(jié)果對(duì)比

測(cè)試結(jié)果對(duì)比表


FIZEAU

PHASICS

直徑(mm)

124.9

125.4

RWE(nm PTV)

1498.13

1535.38

RWE (nm RMS) without PST/TLT/PWR

35.2


RWE (nm RMS) without ST/TLT/PWR/AST/CMA/SA

9.1



SAG(fr)

5.13

5.04

IRR(fr)

0.75

0.61

RSI (fr)

0.34

0.23

RMSt (fr)

1.477

1.459

RMSi (fr)

0.129

0.103

RMSa (fr)

0.085

0.059

光學(xué)元件形貌測(cè)試系統(tǒng)技術(shù)規(guī)格

KALEO Multiwave技術(shù)規(guī)格

配置

雙透射

測(cè)試功能

RWE反射表面形貌

TWE透射器件

最多可支持波長

標(biāo)配2個(gè)波長;最多可以8個(gè)波長

定制波長

從193nm到14um可選

紫外:266nm,355nm,405nm

VIS/NIR:550nm,625nm,780nm,940nm,1050nm SWIR/MWIR/LWIR:1.55um,2.0um,3.39um,10.6um

通光口徑

130mm

光路中心高度

108mm

調(diào)試模式

實(shí)時(shí)相位及澤尼克系數(shù)顯示

FOV調(diào)整范圍

+/- 2°

尺寸和重量

910x600x260 mm3 , 25kg

隔震要求

重復(fù)性(RMS)

<0.7nm(<λ/900)

精度

80nmPV

動(dòng)態(tài)范圍(defocus)

500 fringes SFE=150um

反射率

~4% - 99%

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